По выбранным Rсл
и bi
определяется длина резистора li
по формуле:
li
= bi
(R ∕ Rсл
), (6)
где Nизг - количество изгибов резистора на угол π/2; k1, k2 - поправочные коэффициенты, учитывающие сопротивление контактных областей резистора, зависящее от конфигурации контактной области резистора, соотношения размеров контактного окна l1, контактной области l2 и реальной ширины резистора bi
с каждой его стороны; n1 и n2 - число контактных площадок (обычно n = 2).
Полная относительная погрешность сопротивления диффузионного резистора определяется суммой погрешностей:
ΔRi
∕ Ri
= ΔKф ∕ Kф + Δ Rсл
∕ Rсл
+ αRΔT, (7)
КФ =l ∕ b== R ∕ ρs, (8)
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
В данной дипломной работе был разработан пакет учебно-прикладных программ для обучения студентов дисциплине «Проектирование интегральных микросхем», включающий две лабораторные работы: «Изучение конструкции полупроводниковых интегральных микросхем на биполярных транзисторах» и «Расчет параметров диффузионных резисторов». Разработанные лабораторные работы позволяют студентам с помощью персонального компьютера изучить особенности технологии ППИМС, БП транзисторов, структуру кристалла и диффузионных резисторов, типы диффузионных резисторов, особенности их построения и расположения на подложке, выполнить расчет параметров резисторов.
Разработанные лабораторные работы современны, показательны, они являются «студентоориентированными», что облегчает как процесс получения знаний студентами, так и процесс обучения преподавателем. Новая оболочка имеет дружественный интерфейс, интуитивно понятна, эргономична, обладает большим модернизационным потенциалом.
Пакет учебно-прикладных программ был создан с использованием языка XHTML, который является современным языком для разработки сайтов, веб-страниц. Преимуществом выбранного языка является возможность постоянной доработки, совершенствования и дополнения данного пакета учебно-прикладных программ. Благодаря использованию возможностей XHTML лабораторные работы будут понятны любому пользователю, они просты в понимании, что важно, так как чем меньше отвлекающих факторов, тем лучше усвоение изучаемого материала.
В процессе создания данной дипломной работы были рассмотрены основные характеристики материалов, структура и технологические процессы производства ППИС. Также были рассмотрены характеристики и расчет диффузионных резисторов, требования к их проектированию и существующие ограничения.
Тема дипломной работы является перспективной, планируется дальнейшая разработка лабораторных работ данного цикла и включение их в пакет учебно-прикладных программ для обучения студентов дисциплине «Проектирование интегральных микросхем»
ПРИЛОЖЕНИЯ
Приложение 1
Основные требования к пластинам кремния [3, с.318].
Характеристика пластин |
Диаметр, мм |
Допустимые значения |
Точность кристаллографической ориентации рабочей поверхности |
76; 100 |
±0,5° |
Отклонение диаметра |
76 |
±0,5 мм |
100 |
±(0,5…0,8) мм | |
Отклонение толщины от номинала в партии |
76; 100 |
±(10…20) мкм |
Отклонение толщины от номинала по пластине |
76; 100 |
±(5…10) мкм |
Длина базового среза |
76 |
20…25 мм |
100 |
30…35 мм | |
Длина дополнительных срезов |
76 |
9…11 мм |
100 |
16…20 мм | |
Непараллельность сторон (клиновидность) |
76; 100 |
±0,5 % |
Неплоскостность |
76 |
4…9 мм |
100 |
5…9 мм | |
Прогиб в исходном состоянии |
76 |
15…30 мм |
100 |
20…40 мм | |
Прогиб после термоиспытаний |
76 |
50 мкм |
100 |
60 мкм | |
Шероховатость рабочей стороны |
76; 100 |
Rx ≤ 0.05 мкм |
Шероховатость нерабочей стороны |
76; 100 |
Ra ≤ 0.5 мкм Шлифовано-травленная |
Самое читаемое:
Алгоритм поиска неисправности и способ настройки и регулировки импульсного источника питания
Источниками
питания называют устройства, предназначенные для снабжения электронной
аппаратуры электрической энергией и представляющие собой комплекс приборов и
аппаратов, которые вырабатывают электрическую энергию и преобразуют её к виду,
необходимому для нормальной работы каждого узла электронной аппаратуры.
В
настоящее время с ...