Исходными данными для расчета геометрических размеров диффузионных резисторов являются: заданное в принципиальной электрической схеме номинальное значение сопротивления Ri
и допуск на него ΔRi
; сопротивление резисторного слоя Rсл
, на основе которого формируется резистор; среднее значение мощности Р и максимально допустимая удельная мощность рассеяния Р0; основные технологические и конструктивные ограничения. Анкера купить ростов анкерные болты купить.
Проектирование диффузных резисторов осуществляется в следующем порядке:
по заданной величине сопротивления выбираются параметры резисторного слоя (Rсл
);
- определяется ширина резисторов bi
, исходя из заданной точности изготовления величины сопротивления (DRi
∕ Ri
);
по выбранным Rсл
и bi
определяется длина резисторов (li
) c учетом их формы;
определяются паразитные параметры проектированных диффузионных резисторов.
Ширина резистора определяется по формуле:
, (1)
где: Db - точность изготовления линейных размеров диффузионных резисторов, для типовых технологических процессов Db=5,5 мкм; DRi
∕ Ri
и DRсл
∕ Rсл
- соответственно, заданная точность сопротивления резистора и точность изготовления резистивного слоя (табл. 3).
Ширина резистора ограничивается разрешающей способностью фотолитографии. За расчетную ширину bi
i-го
резистора принимают значение, которое не меньше наибольшего значения одной из трех величин: bтехн, bточн, bР:
bi
≥ mах{ bтехн, bточн, bР }, (2)
где:
bтехн - минимальная ширина резистора, определяемая разрешающей способностью технологических процессов;
bточн - минимальная ширина резистора, при которой обеспечивается заданная погрешность геометрических размеров;
bр - минимальная ширина резистора, определяемая из максимально допустимой мощности рассеяния.
Величину bтехн, находят из перечня технологических ограничений выбранной технологии (например, для планарно-эпитаксиальной технологни bтехн = 5 мкм).
Ширину bточн определяют из выражения:
bточн = (Δb + Δl ∕ КФ)КФ ∕ΔKф, (3)
где Δb и Δl - абсолютные погрешности ширины и длины резистивной полоски, обусловленные технологическими процессами, Кф - коэффициент формы резистора; ΔKф - погрешность коэффициента формы резистора.
Для типовых технологических процессов Δb = Δl = 0,05÷ 0,1 мкм.
ΔKф ∕ КФ = ΔR ∕ R−ΔRсл
∕ Rсл
− αRΔT, (4)
где ΔKф ∕ Кф - относительная погрешность коэффициента формы резистора; ΔRсл
∕ Rсл
- относительная погрешность воспроизведения удельного сопротивления резистивного слоя (табл. 3), αR - температурный коэффициент сопротивления резистора (табл. 3); ΔT - температурная погрешность сопротивления.
Ширину bp определяют из выражения
(5)
где - максимально допустимая удельная мощность рассеяния, выбираемая в зависимости от типа корпуса микросхемы и условий ее эксплуатации в пределах 0,5-4,5 Вт ∕ мм2.
Принимаем, что интегральный полупроводниковый резистор в сечении, перпендикулярном направлению протекания тока, имеет прямоугольную форму.
Самое читаемое:
Разработка пакета учебно-прикладных программ по дисциплине Проектирование интегральных микросхем
Целью данной дипломной работы является разработка пакета
учебно-прикладных программ по дисциплине «Проектирование интегральных
микросхем».
Данный пакет предназначен для изучения студентами:
технологии полупроводниковых интегральных микросхем на биполярных
транзисторах;
основных принципов проектирования полупро ...