Разделы сайта

Эффузионные ячейки

Рассмотрим модель Кнудсена эффузионной ячейки. В замкнутом объеме с чистым материалом в твердой или жидкой форме, нагретым до температуры Т, устанавливается термодинамическое равновесие между этим материалом и паром вокруг него. Предполагается, что каждая частица, достигшая поверхности, остается на ней, и для компенсации осевших частиц такой же поток должен уходить с поверхности в пар. Если же коэффициент прилипания К частиц к поверхности меньше единицы, то часть из них отражается и возвращается в пар. https://udarnik.com.ru купить стальные ванны в симферополе.

Этот коэффициент прилипания К зависит от многих микроскопических параметров поверхности и налетающих частиц, что делает непредсказуемым поток в такой конфигурации с открытой границей раздела между конденсированной и газовой фазами.

Чтобы избежать этой неопределенности, для источника применяют конструкцию ячейки Кнудсена (рисунок 2.2.2). Здесь излучающая поверхность расплава окружена экраном с маленьким отверстием, которое и является источником испаряемых частиц.

Рисунок 2.2.2 - Конструкция ячейки Кнудсена.

Это отверстие в экране должно быть меньше длины свободного пробега частиц при заданном давлении и толщина стенок отверстия должна быть как можно меньше. При этих условиях влетающие в отверстие частицы не смогут вылететь обратно, то есть эффективный коэффициент прилипания такого источника равен единице независимо от типа материала и температуры. В результате число вылетающих частиц в единицу времени для любого материала пропорционально площади А отверстия ячейки и равно А*Smax (Smax - максимальный поток частиц, испаряющихся с поверхности), а угловое распределение вылетающих частиц пропорционально косинусу угла между направлением вылета и направлением нормали к площади отверстия ячейки. Отклонения от этого косинусного распределения становятся заметными при утолщении стенок ячейки до величины, сравнимой с диаметром выходного отверстия. При дальнейшем увеличении толщины выходной пучок становится все более параллельным (рисунок 2.2.3).

Рисунок 2.2.3 - Эффузионная ячейка с большой толщиной стенок

Перейти на страницу: 1 2

Самое читаемое:

Оптимизация процесса напыления материала в магнетронной системе распыления
Оптимизировать процесс напыления материала в магнетронной системе распыления: определить расстояние от поверхности мишени, на котором можно получить заданную толщину напыляемой пленки с требуемой неравномерностью при максимально возможной скорости напыления. Таблица 1. Вариант задания № варианта ...